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コーティング技術

平滑アークIP技術


アークイオンプレーティングの欠点を克服した
「平滑アークイオンプロセス」をご提供



<アークIPの特徴>
■イオン化率が高く
 密着性に優れています。
■生産性の高いプロセスです。
 従って、硬質セラミックコーティング
 に広く利用されています。


<アークIPの欠点>
■コーティング中の粗大溶融粒子の
 影響によりコーティング膜の表面
 平滑性が、他のPVD法に比べて
 劣ります。
 従って、膜表面の平滑性が必要な
 精密金型等には適用範囲が限られていました。


■ITFでは、アークイオンプレーティングの粗大溶融粒子による面荒れという欠点
 を改善した平滑な膜が得られるアークイオンプロセスを実現しました。
 (下の写真参照)
■さらに平滑性を上げるため、
  コーティング後、付着した粗大溶融粒子のみを除去する独自のラッピング法も
  採用可能です。
■適用例
   ジニアスコートCNスムース全て
   ジニアスコートTN,TIA,HAのカスタムタイプ

従来CrN   CNスムース
従来のアークイオンプレーティングによるCrN膜 ジニアスコートCNスムース


従来   弊社
従来のアークイオンプレーティングによるTiAlN膜 ジニアスコートTIA


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