ＩＴＦのセラミックコーティング

ＩＴＦのＰＶＤコーティング

より硬く、より強靱に、コーティング技術で素材を進化！

■ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition：物理蒸着法）は、固体を原料とした
　　コーティング方法です。
■セラミックコーティングの場合は、PVD法の中でも、金属粒子をイオン化し、所定の
　　　雰囲気下で窒化、酸化、炭化等の化学反応をさせる
　　反応性イオンプレーティング法が広く用いられています。

＜ＩＴＦのＰＶＤコーティングの特徴＞
■プロセス、設備
　　生産性と密着力に優れる電子銃式イオンプレーティング法と
　　カソードアーク式イオンプレーティング法を用いています。
■特徴
　　・５００℃以下の低温で密着強度の高い膜が得られます。
　　・膜に圧縮残留応力が生じ、強靱な被膜を形成できます。
　　・幅広い金属元素を使った多種多様な膜や複合膜が可能です。
　　・従って、用途や基材材質に応じた使い分けが可能で
　　　幅広いニーズに対応できます。